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TSP 레이저 다이렉트 패터닝
TSP 레이저 다이렉트 패터닝

TSP(Touch Screen Panel) 제조를 위한 은나노와이어 (Ag nano wire) 투명 전극 레이저 패터닝 장비

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구입문의
Feature
  • Process Performance

    ​· 레이저와 고속 스캐너를 이용하여 패터닝

    ​· 1064nm pico second laser

  • Productivity / Hardware ​

    · 에칭, 프린트 등 기존의 패터닝 공정에 비해 공정이 매우 간단

    ​· 선택적인 패터닝이 가능하므로 Protective Film 제거가 필요 없음

    ​· 롤투롤과 시트 공정 모두 이용 가능

    ​· 화학 물질을 사용하지 않는 친환경 공정

    ​· 고속 레이저와 스캐너를 이용하여 패터닝 시간 단축

    ​· 은나노와이어 패턴 전후의 Haze 변화와 투명도 변화 거의 없음

    ​· 마스크가 필요 없으므로 프로그램 변경만으로 다양한 패턴을 제작

Specifications


Parameter
Categorization
Specification
Roll Film 폭
500mm
XY Stage
X Stroke (필름진행방향)
500mm
Y Stroke (필름수직방향)
500mm
Z Stroke
10mm
Accuracy
3um @ Full stroke
Velocity
500mm/s
Substrate
Size
600mm X 550mm
Flatness
100um
Film handling
Vacuum suction Blowing
Laser & Scanner
Laser type
1064nm pico second laser
Pulse duration
50ps
Repetition rate
5MHz
Scanner speed
30m/s
Field size
500mm x 500mm 이상
Scanner position accuracy
5um
Alignment
Camera
Area Scan Camera
Resolution
1.5um 이하
FOV (Field of View)
2mm (Align mark dependent)
Inspection
Camera
Line Scan Camera
Resolution
5um 이하
FOV
600mm
Speed
1MHz 이상



고객 사양에 따른 대응 가능 (Customize)